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第十七届“中国·光谷”知识产权国际论坛征稿 2019年11月13日 武汉

  1. 作为“中国光谷”国际光电子博览会暨论坛(下称“光博会”)的官方论坛之一,今年的“中国光谷”知识产权国际论坛,将于11月13日在武汉开幕的“光博会”期间举行。

“光博会”由工信部、科技部、国家知识产权局、中国科学院、中国贸促会等国家部委和湖北省政府共同主办,是国内排名前三的光电子领域专业展会,在国际上有高度知名度。

“中国光谷”知识产权国际论坛是构建政府高层领导、行业领先企业和重要学术组织的对话平台,是中国知识产权高层交流和研讨的重要渠道,是国际化的高规格论坛。

武汉知识产权研究会将把优秀稿件编入《论文集》,并作为论坛资料赠送给出席论坛的嘉宾。

各会员单位和学界、业界同仁:

第十七届“中国·光谷”国际光电子博览会暨论坛将于2019年11月13日开幕。“中国·光谷”知识产权国际论坛是“中国·光谷”国际光电子博览会暨论坛的主要论坛之一,是构建政府高层领导、行业领先企业和重要学术组织的对话平台,是中国知识产权高层交流和研讨的重要渠道,是国际化的高规格论坛。武汉知识产权研究会在武汉市科学技术协会和武汉市市场监督管理局(市知识产权局)等单位的支持下,发起以“自由贸易与知识产权”为主题的论坛论文征集活动,现将论文征集暨评选活动的有关事宜通知如下:

征文主题

围绕“自由贸易与知识产权”主题,拟定以下选题作为参考:

(一)自由贸易对中国知识产权战略发展的影响;

(二)自由贸易时代知识产权制度走向研究;

(三)国际贸易冲突下“一芯驱动”战略的发展与前景;

(四)自由贸易背景下中国企业面临的知识产权风险;

(五)自由贸易背景下制造业知识产权保护问题研究;

(六)自由贸易对集成电路产业的知识产权影响;

(七)面向自由贸易的知识产权智库建设;

(八)生物制药技术在自由贸易背景下的机遇和挑战;

(九)社会组织在自由贸易过程中的角色;

(十)相关典型案例、事例、数据的深度剖析;

……

应征者可围绕上述指南展开选题,亦可自定相关选题。

征文对象

知识产权领域从事立法、司法、执法、监督、管理、运营、服务、研究与教学工作的专业人士,科技工作者、博士研究生、硕士研究生等。

征文要求

(一)应征论文应符合“自由贸易与知识产权”主题范围,提倡问题研究导向,密切联系实际;要求观点明确,资料翔实。

(二)应征论文篇幅在3000–10000字范围内为宜,要求附上论文摘要、参考文献、作者简介等(格式要求详见附件1)。作品请勿涉及保密内容。作者应恪守基本学术规范,无知识产权争议,文责自负。论文无论获奖与否,来稿均不退还。

(三)征文截止时间: 2019年10月8日(周二)

(四)请于2019年10月8日前将论文(Word格式电子版)以及征文报送表(详见附件2)一并发送至武汉知识产权研究会秘书处专设电子邮箱(wips011@163.com)。

征文奖励

征文日期截止后,武汉知识产权研究会将组织专家委员会根据公平公正与双向匿名评审的原则评选出特等奖、一、二、三等奖以及优秀奖论文若干篇,给予精神和物质奖励。为鼓励优秀青年人才脱颖而出,本次活动分为“专家组”和“新秀组”(青年组)进行分组评审。应征论文的第一作者在35周岁(含35周岁)以上的,请选择“专家组”参评;应征论文的第一作者在35周岁以下的,可选择“新秀组”(青年组)参评。

联系方式

请各会员单位组织广大会员踊跃投稿,亦热切期盼学界、业界同仁赐稿。

有关事宜请与武汉知识产权研究会秘书处联系。

电话:027-65692311(亦传真)13147188808

邮箱:wips011@163.com

地址:武汉市江汉区发展大道164号武汉科技大厦1201室(武汉知识产权研究会秘书处)

邮政编码:430023

附件:武汉知识产权研究会2019年度主题征文格式要求、征文报送表

武汉知识产权研究会

二〇一九年六月十八日

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